Rusya 150nm elektron ışını litografi prototipini geliştirdi

Rusya, Zelenograd Nanoteknoloji Merkezi aracılığıyla 150 nanometre çözünürlüğe sahip elektron ışını doğrudan yazım litografi sistemi prototipini geliştirdi. Progress ELL 150 olarak adlandırılan sistem, fotomaske gerektirmeyen yapısıyla düşük hacimli ve özelleştirilmiş çip üretimine odaklanıyor.

Sistem üzerindeki teknik testler devam ediyor ve Haziran 2026 itibarıyla tamamlanması planlanıyor. Bu süreçte desenleme hassasiyeti ve üretim doğruluğu gibi kritik performans kriterleri değerlendirilecek.

Zelenograd nanoteknoloji merkezi

Teknoloji, küresel ölçekteki 2nm ve 3nm seviyelerindeki seri üretim standartlarının oldukça gerisinde kalıyor. Ancak sistemin, yüksek üretim hızı yerine tasarım esnekliği gerektiren savunma ve uzay sanayisi uygulamaları için kritik bir yerli üretim kapasitesi oluşturması hedefleniyor.

Bu gelişme, Rusya'nın yarı iletken tedarik zincirindeki dışa bağımlılığını stratejik alanlarda azaltma çabası olarak öne çıkıyor. Sistemin ticari veya endüstriyel ölçekte seri üretime uygunluğu, devam eden testlerin sonuçlarına göre netleşecek.